濺鍍靶材市場規模及份額，依材料（純金屬、合金、化合物、氧化物、同位素）、應用（航太與國防、電子與半導體、玻璃塗層、太陽能電池塗層、固態氧化物燃料電池）、濺鍍方法（射頻） 、直流電、反應式、磁控管、氣流、離子輔助濺鍍）- 全球供需分析、成長預測、統計報告 2024-2036

2023 年濺鍍靶材市場規模預計為 61.1 億美元，預計到 2036 年底將突破 78.1 億美元，在預測期內（即 2024-2036 年）複合年增長率將超過 1.9%。預計2024年濺鍍靶材產業規模為62.1億美元。市場的成長預計將受到再生能源需求不斷增長的影響。因此，到2022年，全球再生能源裝置容量將增加至7%左右。因此，濺射靶材的使用正在增加，因為它被廣泛用於製備薄膜太陽能電池。此外，濺鍍是一種用於塗覆材料以提高其耐用性的技術。磁控濺鍍技術應用於鑽頭的硬化以及防腐和防卡塗層、工具和其他程序。

此外，建築活動的激增也將對濺鍍靶材市場產生影響。這是由於濺鍍靶材能夠製造低輻射鍍膜玻璃，也稱為Low-E玻璃。此外，這種玻璃的目的是節省能源、控制光線並賦予房屋美觀的外觀。因此，建築業對這種玻璃的青睞度很高，進一步拉動了配套靶材的需求。此外，在 X 射線光學中，多層膜至關重要，因為它們被用於許多不同的領域，例如同步輻射、自由電子雷射 (FEL)、醫療光學和星載 X 射線望遠鏡。因此，對濺鍍靶材的需求不斷成長。此外，在許多資料儲存裝置中，採用磁控管濺鍍。 CD、DVD、雷射光碟、硬碟、軟碟、微電快閃記憶體的製作都可以用它來實現。此外，它還可以應用於奈米結構材料的生產。