微影系統市場規模與份額,依技術劃分(ArF 浸入式、KrF、i-line、ArF 乾式、EUV);應用(代工、記憶體、整合裝置);最終用戶(工業、製造業)- 全球供需分析、成長預測、統計報告 2024-2036

  • 报告编号: 4514
  • 发布日期: Feb 10, 2023
  • 报告格式: PDF, PPT

2024-2036 年全球市場規模、預測與趨勢亮點 

基準年

2023年

預測年份

2024-2036

複合年增長率

〜5.5%

基準年市場規模(2023 年)

~ 84.4億美元

預測年度市場規模(2036 年)

~ 169.3億美元

2023 年光刻系統市場規模超過 84.4 億美元,預計到 2036 年底將超過 169.3 億美元,在預測期內(即 2024-2036 年)複合年增長率超過 5.5%。 2024年,光刻系統的產業規模預計為88.6億美元。市場的成長主要歸因於半導體產業的快速擴張和全球半導體晶片產量的增加。例如,2021年半導體產業銷售額達到1.10兆顆晶片的新紀錄。2020年全球半導體銷售額總計達到4,600億美元。

/光刻系統市場成長

平版印刷過程利用油脂和水不相溶的原理來產生印刷品。基於它開發了多種技術,包括半導體光刻技術,該技術以前僅由藝術家用於製作印刷品。目前,微加工系統用於製造薄膜和平面表面的主要部分。因此,光刻系統已越來越多地用於在各種材料上印刷圖稿或文本,以及構建然後併入集成電路中的半導體圖案或晶體。此外,混合動力汽車中半導體晶片的整合度不斷提高,以及利用光刻系統來確定其集成電路的尺寸、位置和形狀的半導體公司數量的增加,預計將在預測期內推動全球光刻系統市場的增長。據估計,汽車包含近3,000個半導體晶片,而混合動力電動車則擁有超過3,500個晶片。

全球光刻系統市場:成長動力與挑戰

成長動力

  • 增加對晶圓廠和晶片製造工廠的投資——據觀察,為了重新開放日本東京的工廠,對製造工廠進行了約 6.48 億美元的投資。一些半導體製造商正在投入巨資建設新的製造設施並擴大現有的製造設施,以滿足最終用戶對半導體不斷增長的需求。此外,由於大型半導體晶圓廠的建設,預計對光刻系統的需求將大幅增加。因此,預計市場在預測期內將大幅成長。

  • 全球汽車產業不斷發展——例如,印度汽車工業預計到 2031 年將創造 2,000 億美元的收入,成為世界第三大工業。由於自動駕駛技術的日益普及,汽車產業對半導體晶片的需求大幅增加。

  • 全球消費者在電子設備上的支出不斷增加 -據估計,到2022 年,全球消費者將在電子產品上花費約5000 億美元。由於消費電子產品和感測器中電路的使用越來越多,光刻系統的需求量大因此,世界各地對光刻系統的需求不斷增加。

  • 研發活動支出不斷增加-截至2020年,世界銀行計算,全球研發支出佔國內生產毛額(GDP)總額的2.63%。與去年相比,顯著成長了2.2%。

  • 主要製造商推出創新技術 -截至 2019 年 3 月,第三代 10 奈米級 (1z-nm) DDR4 記憶體模組已問世,容量為 8 GB (1GB),採用 10 奈米技術製造。

挑戰

  • 生產過程中面臨的技術挑戰
  • 開發用於製造現代微電路的 EUV 光刻系統涉及複雜的流程
  • 與微處理器相關的高成本

全球光刻系統市場按技術細分並分析需求和供應,分為 ArF 浸沒式、KrF、i-line、ArF Dry 和 EUV。在這些細分市場中,EUV 細分市場預計將佔據全球光刻系統市場最大的市場規模。電子設備和小工具的日益普及導致對微處理器的需求不斷增長,預計這將在預測期內促進該細分市場的成長。例如,2021年電視銷售額、智慧型手機銷售額和電腦銷售額總計8,500億美元。極紫外光刻技術利用短光波長在積體電路上印刷複雜的圖案以製造半導體。此外,為推進 EUV 技術而進行的大量研發投資,以及對微處理器和整合晶片 (IC) 等微型技術的需求不斷增長,預計也將推動全球光刻系統細分市場的成長市場。

全球光刻系統市場區域概況

從區域來看,全球微影系統市場分為北美、歐洲、亞太地區、拉丁美洲以及中東和非洲地區等五個主要地區。在這些市場中,由於亞太地區半導體產業的快速擴張,預計到 2036 年底,亞太地區市場將佔據最大的市場份額。據估計,2021年印度半導體產業規模接近260億美元,預計到2026年將以15%的複合年增長率成長,達到630億美元。此外,大量半導體製造廠的存在、專注於無線技術進步的研發活動、各行業自動化程度的提高以及該地區對物聯網和人機界面技術的巨額投資預計將推動光刻系統市場該地區在預測期內的增長。

光刻系統市場成長分析

全球光刻系統市場按地區進一步分類如下:

  • 北美(美國和加拿大)市場規模、年成長、市場參與者分析和機會展望
  • 拉丁美洲(巴西、墨西哥、阿根廷、拉丁美洲其他地區)市場規模、年成長、市場參與者分析和機會展望
  • 歐洲(英國、德國、法國、義大利、西班牙、匈牙利、比利時、荷蘭和盧森堡、北歐(芬蘭、瑞典、挪威、丹麥)、愛爾蘭、瑞士、奧地利、波蘭、土耳其、俄羅斯、歐洲其他地區)、市場規模、年成長、市場參與者分析和機會展望
  • 亞太地區(中國、印度、日本、韓國、新加坡、印尼、馬來西亞、澳洲、紐西蘭、亞太其他地區)市場規模、年成長、市場參與者分析與機會展望
  • 中東和非洲(以色列、海灣合作委員會(沙烏地阿拉伯、阿聯酋、巴林、科威特、卡達、阿曼)、北非、南非、中東和非洲其他地區)市場規模、年成長、市場參與者分析和機會展望

市場區隔

我們對全球光刻系統市場的深入分析包括以下部分:

依技術

  • ArF沉浸式
  • 氟化氪
  • i線
  • 氬氣乾燥
  • 極紫外光

按申請

  • 鑄造廠
  • 記憶
  • 整合設備

按最終用戶

  • 工業的
  • 製造業
  • 其他的

主導全球光刻系統市場的頂級特色公司

  • 阿斯麥控股
    • 公司簡介
    • 經營策略
    • 主要產品
    • 財務績效
    • 關鍵績效指標
    • 風險分析
    • 近期發展
    • 區域分佈
    • SWOT分析
  • 台積電股份有限公司
  • 三星電子有限公司
  • 佳能公司
  • 尼康公司
  • NuFlare 科技公司
  • 電動車組 (EVG)
  • Veeco 儀器公司
  • SÜSS MicroTec SE
  • 愛德萬測試公司 

 


作者学分:  Richa Gupta


  • 报告编号: 4514
  • 发布日期: Feb 10, 2023
  • 报告格式: PDF, PPT

常見問題 (FAQ)

半導體產業的快速擴張、消費性電子產品需求的成長以及技術先進產品的日益普及是推動微影系統市場成長的主要因素。

預計該市場在預測期內(即 2024 年至 2036 年)的複合年增長率將達到 5.5% 左右。

用於製造現代微電路的 EUV 微影系統的開發過程複雜,預計將阻礙市場成長。

預計到2036年底,亞太地區市場將佔據最大的市場份額,並在未來提供更多商機。

市場主要參與者包括 ASML Holding、台積電、三星電子、Canon、尼康、NuFlare Technology, Inc.、EV Group (EVG)、Veeco Instruments Inc.、SöSS MicroTec SE ,愛德萬測試公司。

公司簡介是根據產品領域產生的收入、公司的地理分佈(決定創收能力)以及公司向市場推出的新產品來選擇的。

市場按技術、應用、最終用戶和地區進行細分。

EUV 細分市場預計到 2036 年底將獲得最大的市場規模,並顯示出巨大的成長機會。
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