Tamaño y participación del mercado objetivo de pulverización catódica, por material (metal puro, aleación, compuesto, óxido, isótopo), aplicación (aeroespacial y de defensa, electrónica y semiconductores, revestimiento de vidrio, revestimiento de células solares, pilas de combustible de óxido sólido), método de pulverización catódica (radiofrecuencia, corriente directa, reactivo, magnetrón, flujo de gas, pulverización asistida por iones): análisis de oferta y demanda global, previsiones de crecimiento, informe estadístico 2025-2037

  • ID del Informe: 5018
  • Fecha de Publicación: Jan 01, 1970
  • Formato del Informe: PDF, PPT

Tamaño del mercado global, pronóstico y tendencias destacadas durante 2025-2037

El tamaño del Sputtering Target Market se valoró en 6230 millones de dólares en 2024 y es probable que supere los 7960 millones de dólares en 2037, con una expansión compuesta de más del 1,9 % durante el período previsto, es decir, entre 2025 y 2037. En el año 2025, el tamaño del sector del objetivo de sputtering se estima en 6420 millones de dólares.

Se prevé que este crecimiento del mercado se vea influenciado por la creciente demanda de energía renovable. Por lo tanto, en 2022, la capacidad de energía renovable se incrementó a aproximadamente el 7% a nivel mundial. Por lo tanto, el uso del objetivo de pulverización catódica está aumentando, ya que se utiliza ampliamente en la preparación de células solares de película delgada. Además, la pulverización catódica es una técnica que se utiliza para recubrir materiales para aumentar su durabilidad. La tecnología de pulverización catódica con magnetrón se aplica al endurecimiento de brocas, así como a revestimientos, herramientas y otros procedimientos anticorrosión y antiagarrotamiento.

Además, el aumento de las actividades de construcción también influirá en el mercado objetivo de la pulverización catódica. Esto se debe a la capacidad del objetivo de pulverización catódica para fabricar vidrio de recubrimiento de baja radiación, también conocido como vidrio Low-E. Además, este vidrio tiene como objetivo ahorrar energía, controlar la luz y dar un aspecto estético a la casa. Por lo tanto, las industrias de la construcción prefieren mucho este vidrio, lo que aumenta aún más la demanda de objetivos de soporte. Además, en la óptica de rayos X, las multicapas son cruciales ya que se utilizan en muchos campos diferentes, como la radiación sincrotrón, los láseres de electrones libres (FEL), la óptica médica y los telescopios de rayos X espaciales. Por lo tanto, la demanda de objetivos de pulverización catódica está creciendo. Además, en muchos dispositivos de almacenamiento de datos se emplea pulverización catódica con magnetrón. Con él es posible la producción de CD, DVD, discos láser, discos duros, disquetes y memorias flash microeléctricas. Además, se puede aplicar a la producción de materiales nanoestructurados.


Sputtering Target
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Mercado objetivo de sputtering: impulsores del crecimiento y desafíos

Impulsores de crecimiento

  • Crecimiento de la demanda de productos electrónicos de consumo

Varios productos electrónicos de consumo, como teléfonos inteligentes, portátiles y más, están experimentando un aumento en su demanda. Por ejemplo, en 2023, el número total de usuarios de teléfonos inteligentes en el mundo será de unos 5 mil millones, lo que representa aproximadamente el 85% de la población mundial. Debido a esto, también se prevé que crezca la demanda de objetivos de pulverización catódica. Esto se debe a que los circuitos integrados y los transistores de película fina, que se utilizan en dispositivos electrónicos como teléfonos inteligentes, portátiles y televisores, se producen utilizando objetivos de pulverización catódica en grandes cantidades.

  • Creciente demanda de materiales de tierras raras

Durante las próximas décadas a partir de 2023, la demanda de tierras raras está preparada para crecer hasta alrededor del 500% o más a nivel mundial. Las tierras raras suelen tener propiedades eléctricas y ópticas únicas y, por lo tanto, se utilizan con frecuencia como objetivos de pulverización catódica.

  • Aumento del uso de sputtering target en Automoción Producción

Varios componentes automotrices, como faros y faros de automóvil. Las luces traseras, los componentes del tren de transmisión y los componentes de acabado de automóviles utilizan tecnología de objetivo de pulverización catódica para su fabricación. Por lo tanto, con la creciente producción de estos componentes, se prevé que también influya en la utilización de esta tecnología por parte de la industria automovilística.

Desafíos

  • Precio elevado del objetivo de sputtering: el precio del producto final está directamente relacionado con los costes de desarrollo técnico, el complejo proceso de producción y los objetivos utilizados en la maquinaria, las herramientas o los sistemas. Se estima que el precio del producto final aumentará debido a este aumento. Por lo tanto, estas limitaciones podrían impedir que el mercado objetivo se expanda.
  • Daños en parte del plasma
  • Aumento del uso de alternativas

Año base

2024

Año de pronóstico

2025-2037

CAGR

1,9%

Tamaño del mercado del año base (2024)

6,23 mil millones de dólares

Pronóstico del tamaño del mercado para el año (2037)

7.960 millones de dólares

Alcance Regional

  • América del Norte(EE.UU. y Canadá)
  • Asia Pacífico(Japón, China, India, Indonesia, Malasia, Australia, Corea del Sur, resto de Asia Pacífico)
  • Europa(Reino Unido, Alemania, Francia, Italia, España, Rusia, NÓRDICO, Resto de Europa)
  • América Latina(México, Argentina, Brasil, Resto de América Latina)
  • Medio Oriente y África(Israel, CCG Norte de África, Sudáfrica, resto de Medio Oriente y África)

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Objetivo chisporroteante Segmentación

Material (metal puro, compuesto, aleación, isótopo, objetivos de óxido)

El mercado objetivo de pulverización catódica del segmento de objetivos de metal puro generará los mayores ingresos para finales de 2037. Este crecimiento se verá influenciado por un aumento en el uso de objetivos de metal puro en diferentes configuraciones, incluidas planas, circulares, rectangulares y más para el proceso de pulverización catódica y evaporación. El aumento de la producción de películas de alto índice para filtros de infrarrojos, películas finas ferromagnéticas, películas semiconductoras, películas fotoconductoras y películas lubricantes que utilizan estos objetivos también contribuye al aumento de ingresos de este segmento.

Método de pulverización (radiofrecuencia, corriente continua, reactivo, magnetrón, flujo de gas, pulverización asistida por iones)

Se espera que el segmento de pulverización catódica con magnetrones en el mercado objetivo de pulverización catódica experimente un crecimiento significativo en breve. Esto se debe al uso de métodos de pulverización catódica con magnetrón en diversas aplicaciones industriales, incluida la producción de revestimientos resistentes a la corrosión y de baja fricción.

Nuestro análisis en profundidad del mercado global incluye los siguientes segmentos: 

         Material

  • Objetivos de metal puro
  • Objetivos de aleación
  • Objetivos compuestos
  • Objetivos de óxido
  • Objetivos isotópicos

         Aplicación

  • Aeroespacial y Defensa
  • Electrónica y amp; Semiconductores
  • Revestimiento de vidrio
  • Revestimiento de células solares
  • Pilas de combustible de óxido sólido

             Método de pulverización

  • Dispersión por radiofrecuencia
  • Suttering de corriente directa
  • SPuttering reactivo
  • Dispersión magnetrón
  • Dispersión de flujo de gas
  • SPuttering asistida por iones


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Industria del objetivo de pulverización catódica: sinopsis regional

Previsión del mercado norteamericano

Se prevé que la industria de América del Norte dominará la participación mayoritaria en los ingresos del 30 % para 2037, respaldada por la creciente producción de aviones. Por ejemplo, se proyectó que la flota de aviación general tendría alrededor de 204.404 aviones en los Estados Unidos en 2021, un crecimiento con respecto al año anterior. Por lo tanto, la demanda del mercado en esta región está creciendo desde que los objetivos de pulverización catódica se utilizan como aplicación de recubrimiento en el sector aeroespacial.

Estadísticas del mercado APAC

Se prevé que el mercado objetivo de pulverización catódica en la región de Asia Pacífico tenga una expansión notable durante el período previsto. El factor principal que impulsa el crecimiento del mercado en esta región es el creciente interés público en la electrónica de consumo. Además, en la región de Asia Pacífico, se estima que el mercado chino domina, ya que la demanda de vehículos automotores, especialmente eléctricos, es alta.

Sputtering Target Market Demand
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Principales empresas destacadas que dominan el mercado objetivo de sputtering

    • JX Nippon Mining & Corporación de Metales
      • Descripción general de la empresa
      • Estrategia empresarial
      • Ofertas de productos clave
      • Rendimiento financiero
      • Indicadores clave de rendimiento
      • Análisis de riesgos
      • Desarrollo reciente
      • Presencia regional
      • Análisis FODA
    • Praxair Technology, Inc.
    • Plansee SE
    • Mitsui Mining & Fundición Co, Ltd.
    • Hitachi, Ltd.
    • Honeywell Internacional Inc.
    • Sumitomo Chemical Co., Ltd.
    • ULVAC, Inc.
    • Corporación Materion
    • GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.

In the News

  • El Hannover 96 de la Bundesliga alemana y Mito HollyHock de la Liga de Fútbol Profesional de Japón (J. League) han firmado acuerdos de colaboración con TANIOBIS GmbH, una empresa del grupo JX Nippon Mining & Corporación de Metales.
  • Hitachi, Ltd. en India anunció una asociación con M/s NASH INDUSTRIES, un pionero en ofrecer soluciones distintivas en diseño, estampado de precisión de chapa metálica, fabricación y ensamblajes, para proporcionar controladores para motores de CC sin escobillas con circuitos integrados de un solo chip integrados producidos en Hitachi Power Semiconductor Device, Ltd. Japón.

Créditos del autor:   Abhishek Verma


  • Report ID: 5018
  • Published Date: Jan 01, 1970
  • Report Format: PDF, PPT

Preguntas frecuentes (FAQ)

En el año 2025, el tamaño de la industria del objetivo de sputtering se estima en 6.420 millones de dólares.

El tamaño del mercado objetivo se valoró en 6,23 mil millones de dólares en 2024 y es probable que supere los 7,96 mil millones de dólares en 2037, expandiéndose a una tasa compuesta anual de más del 1,9% durante el período previsto, es decir, entre 2025 y 2037. El crecimiento del mercado está impulsado por el crecimiento de la demanda de productos electrónicos de consumo, el aumento de la demanda de materiales de tierras raras y el aumento del uso de objetivos de pulverización catódica en la producción de automóviles.

Se prevé que la industria de América del Norte dominará la participación mayoritaria en los ingresos del 30% para 2037, respaldada por la creciente producción de aviones en la región.

Los principales actores del mercado son JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair Technology, Inc., Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting Co, Ltd., Hitachi, Ltd., Honeywell International Inc., Sumitomo Chemical Co., Ltd., ULVAC, Inc., Materion Corporation, GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.
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