Marktgröße und -anteil von Sputterzielen, nach Material (reines Metall, Legierung, Verbindung, Oxid, Isotop), Anwendung (Luft- und Raumfahrt und Verteidigung, Elektronik und Halbleiter, Glasbeschichtung, Solarzellenbeschichtung, Festoxid-Brennstoffzellen), Sputtermethode (Hochfrequenz). , Gleichstrom, Blindstrom, Magnetron, Gasfluss, ionenunterstütztes Sputtern) – Globale Angebots- und Nachfrageanalyse, Wachstumsprognosen, Statistikbericht 2024–2036

  • Berichts-ID: 5018
  • Veröffentlichungsdatum: Aug 01, 2024
  • Berichtsformat: PDF, PPT

Globale Marktgröße, Prognose und Trendhighlights für 2024–2036

Die Größe des Sputtering-Target-Marktes wurde im Jahr 2023 auf 6,11 Milliarden US-Dollar geschätzt und soll bis Ende 2036 7,81 Milliarden US-Dollar überschreiten, was einem jährlichen Wachstum von mehr als 1,9 % im Prognosezeitraum, d. h. zwischen 2024 und 2036, entspricht. Im Jahr 2024 wird die Branchengröße von Sputtertargets auf 6,21 Milliarden US-Dollar geschätzt. Es wird prognostiziert dass dieses Wachstum des Marktes durch die wachsende Nachfrage nach erneuerbaren Energien beeinflusst wird. So wurde im Jahr 2022 die Kapazität erneuerbarer Energien weltweit auf etwa 7 % erhöht. Daher ist die Verwendung von Sputtertargets auf dem Vormarsch da es in großem Umfang bei der Herstellung von Dünnschichtsolarzellen eingesetzt wird. Darüber hinaus ist das Sputtern eine Technik die verwendet wird um Materialien zu beschichten um ihre Haltbarkeit zu erhöhen. Die Magnetron-Sputter-Technologie wird zum Härten von Bohrkronen sowie zur Korrosions- und Anti-Seize-Beschichtung von Werkzeugen und anderen Verfahren eingesetzt.

Darüber hinaus dürfte sich der Anstieg der Bautätigkeit auch auf den Zielmarkt Sputtern auswirken. Dies ist auf die Fähigkeit des Sputtertargets zurückzuführen strahlungsarmes Beschichtungsglas herzustellen das auch als Low-E-Glas bezeichnet wird. Darüber hinaus zielt dieses Glas darauf ab Energie zu sparen das Licht zu kontrollieren und dem Haus ein ästhetisches Aussehen zu verleihen. Daher bevorzugt die Bauindustrie dieses Glas sehr was die Nachfrage nach unterstützenden Zielen weiter ankurbelt. Darüber hinaus sind Multilayer in der Röntgenoptik von entscheidender Bedeutung da sie in vielen verschiedenen Bereichen eingesetzt werden wie z. B. Synchrotronstrahlung Freie-Elektronen-Laser (FELs) medizinische Optik und weltraumgestützte Röntgenteleskope. Daher wächst die Nachfrage nach Sputtertargets. Darüber hinaus wird in vielen Datenspeichern das Magnetron-Sputtern eingesetzt. Die Herstellung von CDs DVDs Laserdiscs Festplatten Disketten und mikroelektrischen Flash-Speichern ist damit möglich. Darüber hinaus kann es zur Herstellung von nanostrukturierten Materialien eingesetzt werden.


Sputtering Target Market
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Zielmarkt Sputtern: Wachstumstreiber und Herausforderungen

Wachstumstreiber

  • Steigende Nachfrage nach Unterhaltungselektronik

Verschiedene Unterhaltungselektronik wie Smartphones Laptops und mehr verzeichnen einen Nachfrageschub. Im Jahr 2023 wird die Gesamtzahl der Smartphone-Nutzer weltweit etwa 5 Milliarden betragen was etwa 85 % der Weltbevölkerung entspricht. Aus diesem Grund wird erwartet dass auch die Nachfrage nach Sputtertarget steigen wird. Dies liegt daran dass integrierte Schaltkreise und Dünnschichttransistoren die in elektronischen Geräten wie Smartphones Laptops und Fernsehern verwendet werden mit Sputtertarget in großen Mengen hergestellt werden.

  • Steigende Nachfrage nach Seltenen Erden

In den wenigen Jahrzehnten ab 2023 wird die Nachfrage nach Seltenen Erden weltweit auf etwa 500 % oder mehr ansteigen. Seltene Erden haben in der Regel einzigartige elektrische und optische Eigenschaften und werden daher häufig als Sputtertargets verwendet.

Verschiedene Automobilkomponenten wie Autoscheinwerfer und -rücklichter Antriebsstrangkomponenten und Auto-Trim-Komponenten nutzen die herzustellende Sputtertarget-Technologie. Daher wird mit der wachsenden Produktion dieser Komponenten auch die Nutzung dieser Technologie durch die Automobilindustrie voraussichtlich beeinflusst.

herausforderungen

  • Hoher Preis des Sputterziels - Der Preis des Endprodukts steht in direktem Zusammenhang mit den Kosten für die technische Entwicklung dem komplizierten Produktionsprozess und den Zielen die in den Maschinen Werkzeugen oder Systemen verwendet werden. Es wird geschätzt dass der Preis für das Endprodukt aufgrund dieses Anstiegs steigen wird. Diese Einschränkungen könnten daher verhindern dass sich der Zielmarkt für Sputtern ausdehnt.
  • Schädigung eines Teils des Plasmas
  • Anstieg der Nutzung alternativer

Sputtering-Zielmarkt: Wichtige Erkenntnisse

Basisjahr

2023

Prognosejahr

2024-2036

CAGR

~1,9 %

Basisjahr Marktgröße (2023)

~ 6,11 Milliarden US-Dollar

Prognosejahr Marktgröße (2036)

~ 7,81 Milliarden US-Dollar

Regionaler Geltungsbereich

  • Nordamerika (USA und Kanada)
  • Lateinamerika (Mexiko Argentinien Rest von Lateinamerika)
  • Asien-Pazifik (Japan China Indien Indonesien Malaysia Australien Rest Asien-Pazifik)
  • Europa
  • (Großbritannien Deutschland Frankreich Italien Spanien Russland Skandinavien Rest von Europa)
  • Naher Osten und Afrika (Israel GCC Nordafrika Südafrika Rest des Nahen Ostens und Afrika)
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Segmentierung von Sputter-Zielen

Material (Reinmetall Verbindung Legierung Isotop Oxidtargets)

Der Zielmarkt Sputtern aus dem Segment der reinen Metalltargets soll bis Ende 2036 den höchsten Umsatz generieren. Dieses Wachstum wird durch einen Anstieg der Verwendung von reinen Metalltargets in verschiedenen Konfigurationen einschließlich planar kreisförmig rechteckig und mehr für den Sputter- und Verdampfungsprozess beeinflusst. Auch die gestiegene Produktion von hochbrechenden Folien für Infrarotfilter ferromagnetische Dünnschichten Halbleiterschichten photoleitende Folien und Schmierfilme mit diesen Targets trägt zum Umsatzanstieg in diesem Segment bei.

Sputterverfahren (Hochfrequenz- Gleichstrom- Blind- Magnetron- Gasfluss- ionenunterstütztes Sputtern)

Es wird erwartet dass das Segment des Magnetron-Sputterns im Zielmarkt des Sputterns in Kürze ein deutliches Wachstum verzeichnen wird. Dies ist auf den Einsatz von Magnetron-Sputterverfahren in verschiedenen industriellen Anwendungen zurückzuführen darunter die Herstellung von korrosionsbeständigen und reibungsarmen Beschichtungen.

Unsere eingehende Analyse des globalen Marktes umfasst die folgenden Segmente: 

         Material

  • Targets aus reinem Metall
  • Legierungs-Targets
  • Zusammengesetzte Ziele
  • Oxid-Targets
  • Isotopen-Targets

         Anwendung

  • Luft- und Raumfahrt & Verteidigung
  • Elektronik &; Halbleiter
  • Glasbeschichtung
  • Beschichtung von Solarzellen
  • Festoxid-Brennstoffzellen

             Sputter-Verfahren

  • Radiofrequenz-Sputtern
  • Gleichstrom-Sputtern
  • Reaktives Sputtern
  • Magnetron-Sputtern
  • Gasfluss-Sputtern
  • Ionengestütztes Sputtern

 


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Sputter-Zielindustrie - Regionale Zusammenfassung

Marktprognose für Nordamerika

Der nordamerikanische Zielmarkt für Sputtern wird bis Ende 2036 das größte Wachstum verzeichnen unterstützt durch die wachsende Produktion von Flugzeugen. So wurde beispielsweise prognostiziert dass die Flotte der Allgemeinen Luftfahrt im Jahr 2021 in den Vereinigten Staaten etwa 204.404 Flugzeuge umfassen wird ein Wachstum gegenüber dem Vorjahr. Daher wächst die Marktnachfrage in dieser Region da Sputtertargets als Beschichtungsanwendung in der Luft- und Raumfahrt eingesetzt werden.

APAC-Marktstatistik

Der Zielmarkt für Sputtern im asiatisch-pazifischen Raum soll im Prognosezeitraum eine bemerkenswerte Expansion erfahren. Der Hauptfaktor für das Wachstum des Marktes in dieser Region ist das wachsende öffentliche Interesse an Unterhaltungselektronik. Darüber hinaus wird im asiatisch-pazifischen Raum geschätzt dass der Markt in China dominiert da die Nachfrage nach Automobilen insbesondere Elektrofahrzeugen hoch ist.

Research Nester
Sputtering Target Market Size
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Top-Unternehmen die den Sputter-Zielmarkt dominieren

    • JX Nippon Mining &; Metals Corporation
      • Unternehmen Übersicht
      • Geschäftsstrategie
      • Wichtige Produktangebote
      • Finanzielle Leistung
      • Wichtige Leistungsindikatoren
      • Risikoanalyse
      • Jüngste Entwicklung
      • Regionale Präsenz
      • SWOT-Analyse
    • Praxair Technology Inc.
    • Plansee SE
    • Lieferant:Mitsui Mining &; Smelting Co Ltd.
    • Lieferant:Hitachi Ltd.
    • Honeywell International Inc.
    • Lieferant:Sumitomo Chemical Co. Ltd.
    • ULVAC Inc.
    • Materion Corporation
    • Lieferant:GRIKIN Advanced Material Co. Ltd.

In den Nachrichten

  • Hannover 96 aus der deutschen Bundesliga und Mito HollyHock aus der Japan Professional Football League (J. League) haben Partnerschaftsverträge mit der TANIOBIS GmbH einem Konzernunternehmen der JX Nippon Mining &; Metals Corporation unterzeichnet.
  • Hitachi Ltd. in Indien gab eine Partnerschaft mit M/s NASH INDUSTRIES bekannt einem Pionier bei der Bereitstellung von Lösungen mit Unverwechselbarkeit in den Bereichen Design Präzisionsblechstanzen Fertigung und Baugruppen um Controller für bürstenlose Gleichstrommotoren mit integrierten Single-Chip-ICs bereitzustellen die bei Hitachi Power Semiconductor Device Ltd. Japan hergestellt werden.

Autorennachweise:  Abhishek Verma


  • Berichts-ID: 5018
  • Veröffentlichungsdatum: Aug 01, 2024
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Häufig gestellte Fragen (FAQ)

Im Jahr 2024 wird die Branchengröße von Sputtertargets auf 6,21 Milliarden US-Dollar geschätzt.

Die Zielmarktgröße für Sputtering wurde im Jahr 2023 auf 6,11 Milliarden US-Dollar geschätzt und wird bis Ende 2036 voraussichtlich 7,81 Milliarden US-Dollar überschreiten und im Prognosezeitraum, d. h. zwischen 2024 und 2036, um mehr als 1,9 % CAGR wachsen. Das Marktwachstum wird durch die wachsende Nachfrage nach Unterhaltungselektronik, die steigende Nachfrage nach Seltenerdmaterialien und den zunehmenden Einsatz von Sputtertargets in der Automobilproduktion vorangetrieben.

Die nordamerikanische Industrie dürfte bis 2036 das größte Wachstum verzeichnen, unterstützt durch die wachsende Flugzeugproduktion in der Region.

JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair Technology, Inc., Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting Co, Ltd., Hitachi, Ltd., Honeywell International Inc., Sumitomo Chemical Co., Ltd., ULVAC, Inc., Materion Corporation , GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.
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